光刻机拆解传闻:逆向工程思维应休矣,自主创新需夯实

光刻机拆解传闻:逆向工程思维应休矣,自主创新需夯实

(来源:钛媒体APP)近日一则某企业试图逆向拆解荷兰ASML的DUV(深紫外)光刻机,结果因操作失当导致设备严重损坏,最终不得不求助ASML修理的“黑色幽默”般的传闻在国内半导体圈中引起了强烈关注和讨论。尽管该事件细节尚未被权威渠道证实,但结合当下国内光刻机产业在发展中所遭遇的种种,还是引发了我们对其现在和未来的再思考。

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